半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
建设项目时代背景
该单位专业化生產半导体技术用高纯氟化氢和六氟化钨,废水净化处里工学艺氟密度超高且材料复杂性。原始净化处里工学艺效率不安全稳定,氟化物排出常常超量。工程项目注资2五百万元修建特意净化处里设备,定制净化处里能力素质500吨/天。
废气化学成分及主要来源
工业废水通常产自的生产机器洗洁和尾气洗洁:
氟正离子含量:1500-3500mg/L
含磷酸根化合物:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等轻金属属性
治理加工过程程序
采取高含量优点,采用了"与+层级乳浊液+膜除理"方法:
废渣征集池:划分类别征集不同于溶度废渣
与反响池:分时间段加药氢防钝化钠和氢防钝化钙,操纵既定pH至7.5-8.
斜板沉淀出的池想法池:加药系统PAC和PAM增強沉淀出的作用
斜管沉定池:更高效固液隔离
多有机溶剂油烟净化器器:剔除渺小粉末
反固化程序:厚度脱盐和除氟
活性污泥处理浓缩咖啡缺水体系:离心力缺水后活性污泥处理土石方职业 预防
手机在线检测器控制系统:实时视频把控氟阴阳离子质量浓度和pH值
决定性体验
处理系統运作数剧:
漏水氟正离子平均水平渗透压:2800mg/L
满水后氟化合物密度:3.2mg/L(年均)
氟避开率:99.9%上文
水回收利用率:提高65%
平台一键化度高,保持电镀废水整理人工成本较低30%,年回收利用氟化钙副商品约400吨。