半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
新项目的背景
此该项目座落长三角经济区形地某各国级半导体行业产业的发展绿化区,商家核心加工84寸大和124寸大晶圆,每日量到达2万片。跟着产能分析升高,同一的焦化废水进行补救模式已始终无法 实现环保健康需求,肯定需要强制升级更新改造。该项目总投资者约1五百万元,方案进行补救特性为300吨/日,于202一年建造投入运营。
工业废水组成成分及来原
该企业主晶圆划区工艺流程出现的化工废水具体包函之下材质:
切开过程中 中运行的磨细液余留物,重点部分为二硫化硅小粒、表面能活性氧剂和充分生成剂
晶圆漆层清洁工作导致的含氟废污水,氟亚铁离子渗透压在80-120mg/L
几瓶血本属正离子如铜、镍等,主要来出于锯开用具刹车盘磨损
有机会相转移催化剂残留物,涉及到异丙醇、二甲苯等
pH值变化很大,一般是在4-10相互
加工鑫霖环保步骤流程
对应化工废水性能,构思选择"物理化学预补救+生化学补救+厚度补救"的搭配技艺:
调控池
:教育均衡发展水体需水量,設置pH百度在线探测和一键投加药剂软件
混凝土沉垫
:加药系统PAC和PAM,的还原悬浮物物和悬浊液物料
气浮第一单元
:选择溶气气浮施工工艺进两步剔除这些细微粉末和那部分巧妙物
生物化治疗
:采取MBR膜怪物反馈器,厌氧颗粒污泥溶液浓度长期保持在8000-10000mg/L
角度解决
:活性酶炭吸附物+反构建加工,确认冒水考核标准
污泥干化外理
:板框压滤机厂家脱水现象,淤泥含水分率调至60%一些
补救效用
体系平稳执行后,留水水质标准单位非常高达《光学化学工业水环境破坏物的废气污染物标准单位》(GB39731-2020)十分的污染物卫生防护距离必须:
COD<30mg/L
氟阳离子<5mg/L
悬屏物<10mg/L
血本属一项标准均高于最大限度
的项目常年可才能减少废弃物物尾气排缩量上涨约COD 32吨、氟化物8.5吨,中水回用水率提高75%上文,为商家降低成本水电费其他支出约140万元/年。