某半导体行业创造企业公司因晶圆清洁工艺流程制造含氨焦化废水，的水量200吨/天。焦化废池中除氟化物外还有氟化物和少量高价属，外理难度很大大。日本废气排放规格的标准氟化物＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 电镀废水组成及來源 晶圆清晰污废水 （核心來源）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺流程生产废水：含进样器铜、镍等血本属，pH值下降大 CMP粉磨污水：含硅颗粒剂及氟化物 加工处理制作工艺工作流程 应用"化工悠长岁月中+膜剥离+折点氯化"组合式鑫霖环保： 预净化处理 ：加药CaCl2除氟，操纵pH在7.5-8. 反渗透膜设计 ：清理0.01μm上粉末物 反融入沉淀 ：将化学需氧量精浓至1000mg/L之内 折点氯化 ：精密把握氯加药系统量，将高锰酸盐指数变为为氢气 阴阳离子交易 ：担保巨资属不合格 结果是感觉 化学需氧量安全稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属分量如果低于论文检测限 水造纸废水处理率达75% 工业废水所产生量变少40%